G-33D8雙面光刻機(jī)...

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G-33E4型高精密光刻機(jī) 產(chǎn)品介紹： 設(shè)備概述 本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的...

G-33D6型高精密光刻機(jī) 產(chǎn)品介紹： 設(shè)備概述 本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)**，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、...

G-33B6型高精密光刻機(jī) 產(chǎn)品介紹： 設(shè)備概述 本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)**，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷...

G-31D6型高精密光刻機(jī)產(chǎn)品介紹：設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。主要構(gòu)成 本設(shè)備為板板對準(zhǔn)雙面曝光...

G-31D4型高精密光刻機(jī) 產(chǎn)品介紹：設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。主要構(gòu)成 本設(shè)備為板板對準(zhǔn)雙...

G-33E6型高精密光刻機(jī)產(chǎn)品介紹： 設(shè)備概述 本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)**，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的...

G-33D4型高精密光刻機(jī)產(chǎn)品介紹：設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)**，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且...

G-33B4型高精密光刻機(jī)產(chǎn)品介紹：設(shè)備概述本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，主要用于集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)**，找平力小，使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而...

G-31B6型高精密光刻機(jī) 產(chǎn)品介紹： 設(shè)備概述 本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。 主要構(gòu)成 本設(shè)備為...

G-31B4型高精密光刻機(jī)產(chǎn)品介紹： 設(shè)備概述 本設(shè)備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專院校、科研單位，它主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。 主要構(gòu)成 本設(shè)備為板板對...